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TI專家在ICCAD表示 90奈米將對EDA工具提更高要求

上網時間: 2004年11月15日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:power  signal integrity  test  90 nm  manufacturing 

德州儀器專家Peter Rickert日前在ICCAD 2004的主題演講中表示,在90奈米節點,設計工具需要更加注意功率、實體、製造、訊號完整性和測試。

Rickert是TI平台技術開發部的成員,他列出了90奈米製程節點處的許多有可能隨著65奈米製程在2006年啟用而趨於惡化的問題。他說,在90奈米節點,功率已成為首要關注的焦點問題。

「設計師的新使命是基於性能穩定而不是電壓穩定。」Rickert說。「我知道我要達到的是何種電壓,但問題是'我能容許的電壓變化範圍是多大,並且能實現所需要的性能水準?」

Rickert表示,EDA供應商必需開發允許設計師使用多種電壓域並採用電氣規則校驗的技術。他指出,工具要更好的理解邊界條件和可變電壓Vdd。工具還需要支援多個VT庫,並幫助用戶在邏輯上施加「睡眠」及「催眠模式」。他還呼籲EDA供應商提供能最佳化金屬堆疊使用、並能更好地進行VIA規劃的佈線器。

他進一步指出表示,TI已經使用了Cadence的X-Architecture非正交佈線技術,允許45度佈線。但他稱該工具需要有一個支援流程,以使它更可行。他還呼籲設計團隊更密切地合作及更優良的管理軟體。





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