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羅門哈斯針對先進化學機械研磨推出研磨墊

上網時間: 2005年09月14日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:Rohm and Haas Electronic Materials  Rohm  Haas  羅門哈斯電子材料  羅門哈斯 

羅門哈斯電子材料(Rohm and Haas Electronic Materials)公司CMP技術事業部推出VisionPad VP3100研磨墊。該公司表示,VP3100是一款結合硬研磨墊和軟研磨墊優點以支援先進化學機械研磨應用的研磨墊,可為銅晶圓量產應用提供卓越的平坦化能力和低缺陷率,進而提高65奈米製程的產出和降低總持有成本。

VisionPad VP3100研磨墊是羅門哈斯VisionPad化學機械研磨墊系列的首款產品,所採用的獨家聚氨脂配方既能提供比傳統硬研磨墊更軟的表面以減少缺陷,又能維持必要的堅硬度以便在銅阻障層的化學機械研磨製程中提供良好的平坦化能力。這種先進研磨墊技術利用多種新型化學聚合物將晶圓表面的刮痕震紋減至最少,大幅提升了晶粒良率,而研磨墊壽命不僅達到業界標準硬研磨墊的水準更遠超過業界標準軟研磨墊。

羅門哈斯表示,這種獨一無二的雙重優點使其適用於各種研磨台,可減少設備停機時間與晶圓毀損,同時提高製程產出。VP3100研磨墊目前已被用於部分亞洲晶圓廠和一家歐洲半導體製造商的生產製造上,預計2006年1月即可在市場上正式推出。

羅門哈斯電子材料CMP Technologies技術副總裁Cathie Markham表示﹕「隨著客戶邁向65奈米元件技術,他們發現過去所能容忍的製程缺陷現在都成為晶圓良率的殺手,VisionPad VP3100研磨墊為銅阻障層製程提供平坦化效果絕佳的低缺陷率研磨墊,可協助廠商解決此一問題。由於製程的改進,讓我們能提供邏輯元件製造商、IDM以及晶圓代工廠商等客戶最穩定可靠的產品,而他們幾乎不需做任何修改就能將VP3100研磨墊整合到現有的製程。」

不同於這類應用常見的一般軟研磨墊,VisionPad VP3100化學機械研磨墊還可接受調整控制,讓研磨墊表面再生,使其在整個產品壽命週期內都能提供穩定一致的最佳研磨效果。雖然VP3100化學機械研磨墊是以65奈米應用為主要目標,但也適用於現有的130奈米和90奈米製程。





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