Global Sources
電子工程專輯
 
電子工程專輯 > EDA/IP
 
 
EDA/IP  

SIGMA-C推出可防止65nm以下光罩故障的DFM工具

上網時間: 2006年04月05日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:SOLID+  microlithography simulation  image verification  圖像驗証  design-for-manufacturing 

SIGMA-C Software公司推出首個微印刷模擬/圖像驗証工具,可將電子設計轉移到印制晶圓上,以防止65nm下的光罩故障。

該工具的模擬範圍比傳統印刷大200倍。其可在晶片設計過程中識別熱點,晶片大小為20×20um。SOLID+有現貨提供,此外SIGMA-C Software公司還提供其它SIGMA-C模組,如3D光罩和3D晶圓。




投票數:   加入我的最愛
我來評論 - SIGMA-C推出可防止65nm以下光罩故障的D...
評論:  
*  您還能輸入[0]個字
*驗證碼:
 
論壇熱門主題 熱門下載
 •   將邁入40歲的你...存款多少了  •  深入電容觸控技術就從這個問題開始
 •  我有一個數位電源的專利...  •  磷酸鋰鐵電池一問
 •   關於設備商公司的工程師(廠商)薪資前景  •  計算諧振轉換器的同步整流MOSFET功耗損失
 •   Touch sensor & MEMS controller  •  針對智慧電表PLC通訊應用的線路驅動器
 •   下週 深圳 llC 2012 關於PCB免費工具的研討會  •  邏輯閘的應用


EE人生人氣排行
 
返回頁首