Global Sources
電子工程專輯
 
電子工程專輯 > EDA/IP
 
 
EDA/IP  

明導國際的Calibre LFD試圖解決製程變異性問題

上網時間: 2006年04月15日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:明導國際  可製造性設計  製程視窗 ; Mentor Graphics  DFM  process window 

進入90奈米世代之後,由於製程變異性(Process Variability)造成的良率降低,是近來半導體業者亟欲解決的問題,也因此各種不同的可製造性設計(DFM)技術應運而生。明導國際(Mentor Graphics)在其Calibre平台上,推出Litho-Friendly Design(LFD)產品,便是希望透過在佈局階段先進行微影(Lithography)製程的模擬,如此可事先預知光罩製作時可能會產生的缺陷,以便先行修正佈局設計,能將製程變異對設計造成的影響降至最低。

明導公司的技術顧問Jochen Schacht博士解釋說,“由於在微影製程中,光線強度以及焦距,也就是光源與晶圓間的距離,並不會保持在絕對的定值之下,這兩個變化因素便會造成製造過程上的差異。在某一可容許的變異範圍內,我們將其稱之為製程視窗(process window)。”

“就目前的晶片設計流程來看,通常佈局(layout)工程師在完成DRC(設計規則檢查)之後,便將設計交給晶圓廠進行後續的光罩製作與實際製造工作。雖然這時,都會利用OPC(光學近似修正)以及RET(解析度增強技術),使電路幾何能夠正確地產生出來,然而往往會由於微影過程的變異性,影響了晶片生產的良率。”

他強調說,特別是在90奈米以下的設計,某些佈局拓墣即使通過了DRC,也在process window之內,但仍有可能會失敗,“電晶體幾何外型的些微變化,有可對晶片的時脈收斂、電氣特性、以及漏電流造成影響,這會對晶片的效能產生不確定因素,自然也影響了良率。”

然而若依照現行的設計流程,這些情況都得等到光罩實際製作出來之後才會發現。為了使佈局設計更為強韌,並降低對製程視窗變異的敏感性,明導國際的Calibre LFD工具便試圖在佈局階段中,提供了先行進行微影製程模擬的功能。

Jochen Schacht表示,“LFD是針對Layout工程師所使用的工具,它能與現有的實體驗證、DRC設計方法完全整合,讓Layout工程師能夠有能力先驗證微影過程可能產生的缺陷,預先進行佈局的修正。”

Calibre LFD的模擬主要是根據‘製程套件’資訊,其中包含RET選單、製程模型以及參數化規則。這些資料都儲存在LFD的資料庫中,以供佈局工程師進行模擬之用。此外,LFD也會計算出設計變異性指數(DVI),告訴工程師此一佈局設計的可靠程度,工程師可以選用對製程變異性最不敏感的佈局設計,來進行投片。

對於LFD的應用來看,Jochen Schacht認為對65奈米設計來說,將能夠大幅提昇晶片良率,但到了45奈米世代,就ㄧ定得利用這樣的技術,“我們希望能夠推動這樣的概念:對佈局設計來說,除了 DRC-clean之外,也必須LFD-clean,才是完整的設計流程。”

作者: 勾淑婉




投票數:   加入我的最愛
我來評論 - 明導國際的Calibre LFD試圖解決製程變...
評論:  
*  您還能輸入[0]個字
*驗證碼:
 
論壇熱門主題 熱門下載
 •   將邁入40歲的你...存款多少了  •  深入電容觸控技術就從這個問題開始
 •  我有一個數位電源的專利...  •  磷酸鋰鐵電池一問
 •   關於設備商公司的工程師(廠商)薪資前景  •  計算諧振轉換器的同步整流MOSFET功耗損失
 •   Touch sensor & MEMS controller  •  針對智慧電表PLC通訊應用的線路驅動器
 •   下週 深圳 llC 2012 關於PCB免費工具的研討會  •  邏輯閘的應用


EE人生人氣排行
 
返回頁首