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新款DFM工具解決先進製程虛擬填充問題

上網時間: 2006年05月08日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:DFM  Xyalis  65奈米  虛擬填充  GTstyle 

可製造性設計(DFM)與EDA佈局工具供應商Xyalis日前聲稱已開始針對65奈米及以下製程節點的虛擬填充(dummy fill)問題,提供首款針對特殊及複雜設計規則的工具。

Xyalis表示,這款命名為GTstyle的新工具是與主要半導體製造商共同開發,以解決先進製程技術的虛擬填充問題。該工具可提供像密度變異分析與粗糙度分析等功能,同時還能在使用銅及淺溝隔離化學機械研磨(CMP)的製造過程中實現更高的良率。

Xyalis指出,儘管密度分析通常使用像設計規則檢查這類工具來完成,但在先進製程節點,這些工具並不夠完善。而GTstyle則使用這些參數,同時可控制密度變異並為用戶提供管理整個晶圓的能力。

該公司表示,粗糙度分析是一種使用拓樸學資訊以完善密度分析的新參數。GTstyle能使用這些資訊來調整目標密度及其變異,無需使用模擬模型,而是基於現有的CMP製程效應。這使該工具得以管理並插入虛擬,而結果與基於模型的解決方案非常接近。GTsytle現有32位元Linux與32/64位元Solaris及HP-UX等平台版本。

(Dylan McGrath)




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