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SEZ在亞太市場積極推廣單晶圓溼式清洗方案

上網時間: 2006年06月28日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:SEZ  Da Vinci  單晶圓濕式製程  DV-38DS  DV-38F 

半導體產業單晶圓溼式清洗解決方案供應商SEZ Group,宣布接獲來自業界晶圓大廠訂購超過12台Da Vinci平台的訂單。SEZ表示,Da Vinci機台自2003年11月出貨以來即受到業界歡迎,第100套系統預計於本季出貨。

SEZ指出,由於有些客戶致力於記憶體裝置的製造,該公司的新增訂單顯示記憶體製造產業已提升至單晶圓濕式製程;雖說邏輯晶片製造商帶動了這項轉移,但記憶體廠商與晶圓代工廠,也開始尋求單晶圓應用為其高階製造運作帶來成本與效能的利益。

不久前SEZ發表了與記憶體領導廠商共同開發的Da Vinci平台雙面製程模組DV-38DS,將原有DV-38系統內的八個標準反應室,換成八個雙面製程模組,讓晶圓正面聚合物與背面有機物/粒子可同時被高效清除。

除DV-38DS外,Da Vinci系列產品還包括八個反應室DV-38F/28F系統與四個反應室DV-34BF/24BF系統。SEZ表示,目前Da Vinci平台營收佔該公司總營收的60%以上,其中有一半以上是在日本與亞太地區裝機。




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