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松下採用Calibre OPCverify於65奈米生產製程

上網時間: 2006年09月25日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:明導國際  Mentor Graphics  松下  Matsushita  CalibreR OPCverify 

明導國際(Mentor Graphics)日前宣佈,松下電器(Matsushita Electric Industrial)所屬的半導體公司已決定將CalibreR OPCverify工具用於65奈米和更先進製程的生產作業。Calibre OPCverify能於製造晶片前找出和修復潛在的重大良率問題,進而克服製程變異管理的艱巨挑戰。

製程變異可能對晶片良率產生極大影響,這種現象在微影製程中尤其明顯,因為就算微影設備的作業條件在可接受範圍內,影像傳真度也可能因為製程變異而出現極大失真。為了減少晶片故障風險、避免昂貴的重製過程和確保產品上市時程,Calibre OPCverify能在設計進入光罩製作階段或交給晶圓廠商生產前找出製程變異導致的微影錯誤或誤差。

Calibre OPCverify使用已通過晶片驗證的Calibre OPCpro模擬模型,這種下一代RET驗證工具提供全晶片的模擬涵蓋範圍以確保晶片圖案轉移成功。Calibre OPCverify畫素式模擬引擎所採用的專利演算法可定義不利於圖案轉移的各種條件(曝光劑量、焦距),克服製程變異所產生的負面影響。

Calibre OPCverify所有建模功能都已針對最先進的製程條件完成徹底的特性分析,例如浸入式微影技術。Calibre OPCverify工具並採用最嚴謹的模型開發與驗證方法,使其能同時滿足RET配方驗證和光罩檢驗的最嚴苛要求。

使用Calibre OPCverify的另一優點是這些工具能以最佳方式利用現有硬體,例如結合工作站的高速運算效能和Calibre MTflex的並行處理能力來大幅縮短全晶片RET驗證的TAT時間(Turn Around Time)。雖然實際驗證時間與所用硬體有關,Calibre OPCverify百萬畫素模擬器可擴展使用數百顆處理器和支援展平式或階層式設計,同時確保生產環境能夠預測TAT時間。




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