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ASML以2.7億美元現金收購Brion跨足DFM市場

上網時間: 2006年12月27日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:微影  晶圓製造  半導體設備  DFM  Brion 

做為其跨足可製造性設計(design-for-manufacturing,DFM)領域的策略之一,荷蘭半導體設備業者ASML宣佈以2.7億美元現金,收購半導體設計和晶圓製造技術供應商Brion Technologies。

透過收購,專長半導體微影設備的ASML將進入新的DFM市場。Brion成立於2002年,致力於日益增長的運算式微影(computational lithography)市場,業務範圍包括設計驗證、標線增強(reticle enhancement)技術和光學矯正。Brion宣稱其運算式微影技術可讓半導體製造商模擬真實電路模型,糾正晶圓製造過程中出現的偏差。

Brion與第三方合作夥伴簽有各種合作協議,包括與ASML的競爭對手Nikon,目前尚不清楚Brion是否繼續與Nikon的DFM協議。ASML在半導體微影設備市場處於領導地位,在DFM市場投入很大精力,該公司旗下ASML MaskTools為晶片製造商提供“柔性(soft)”相變化軟體。

ASML認為收購Brion對該公司很有幫助。ASML總裁兼首席執行官Eric Meurice表示:「合併後ASML的技術將更加完整,明顯延伸半導體產業的支援能力,增強晶片製造的效率。」據悉,ASML將支付2.7億美元現金用於收購Brion,其他交易細節未對外披露。

此次收購尚需等待有關部門的批准,預計收購將在2007第1季度完成。據悉,收購完成後Brion將繼續對其當前產品提供支援,並且作為ASML全資子公司方式運營。

(參考原文:ASML to buy Brion for $270 million)

(Mark LaPedus)




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