Global Sources
電子工程專輯
 
電子工程專輯 > 製造/封裝
 
 
製造/封裝  

ASML:微影市場將於2012年成長至100億歐元

上網時間: 2007年11月15日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:微影  半導體 

微影設備商ASML於11月2日所舉辦的一場與財務分析師及投資人的會議中表示,預估全球半導體微影市場將從2006年的50億歐元成長到2012年的100億歐元以上,平均年成長約為13%。

ASML所做的評估是根據對半導體市場發展的預測,以及參考客戶在各技術節點的發展藍圖,再加上針對新世代半導體製程所需要之更高微影技術資本密度(capital intensity)的期望值而來。另外ASML也表示,到目前為止,所有的ASML浸潤式微影系統已處理超過400萬片的晶圓,協助客戶生產出功能更強大、價格更便宜的半導體元件。

而ASML並指出,其正準備以多項微影技術來應付未來的半導體產業成長,而這些微影技術可以延伸莫爾定律(Moore's Law)的應用至下一個10年,這些技術包括極紫外光(Extreme Ultraviolet,EUV)、運算型微影技術(computational lithography)、雙重圖案曝光技術(double patterning)、以及3D元件尺寸縮減技術(3D scaling enabler)等。




投票數:   加入我的最愛
我來評論 - ASML:微影市場將於2012年成長至100億...
評論:  
*  您還能輸入[0]個字
*驗證碼:
 
論壇熱門主題 熱門下載
 •   將邁入40歲的你...存款多少了  •  深入電容觸控技術就從這個問題開始
 •  我有一個數位電源的專利...  •  磷酸鋰鐵電池一問
 •   關於設備商公司的工程師(廠商)薪資前景  •  計算諧振轉換器的同步整流MOSFET功耗損失
 •   Touch sensor & MEMS controller  •  針對智慧電表PLC通訊應用的線路驅動器
 •   下週 深圳 llC 2012 關於PCB免費工具的研討會  •  邏輯閘的應用


EE人生人氣排行
 
返回頁首