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聯電與明導共同推出晶圓專工設計套件

上網時間: 2008年05月26日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:晶圓專工  Eldo模擬模式  Calibre 

聯華電子(UMC)與明導國際(Mentor Graphics)共同宣佈,針對混合訊號與射頻技術推出一系列新的晶圓專工設計套件(FDK)。這一系列的設計套件在電晶體元件層級包含了經驗證的合成區塊,可協助IC設計公司直接進入聯電0.13微米與90奈米混合訊號╱射頻製程的設計週期。

該設計套件配備了明導的類比╱混和訊號IC流程,能加速類比、混和訊號以及射頻系統單晶片IC的上市時程,並且將生產過程最佳化。合成的套件還包括聯電Eldo模擬模式、Calibre設計準則檢驗、佈局圖(LVS)與析出技術檔案,支援圖式佈局與模擬的圖式符號與可程式化元件產生器,以及一組客製化配置檔案。

聯電的主流0.13微米製程採用最高到8層的銅導線,閘級密度為220k gates/mm2。聯電的90奈米製程自2003年三月即已進入量產,聯電與明導國際將持續合作,使用明導國際的IC流程,將套件延伸至65奈米及以下製程。明導國際的IC流程包含一個統一的設計平台與集中的設計指揮艙,使得從圖形捕捉、模擬、平面規劃,到實體佈局與最後驗證的階段,整個類比混和訊號IC設計流程都非常順暢。





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