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台積電指40奈米良率明年初改善 與中芯庭外和解

上網時間: 2009年11月11日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:台積電  良率  庭外和解 

針對40奈米製程良率問題,晶圓代工大廠台積電(TSMC)表示,該狀況可在2010年初獲得解決;此外台積電日前也與中國同業中芯國際(SMIC),就雙方的侵權訴訟在法庭外達成和解。

台積電的40奈米良率問題在今年稍早之前就已發生,雖該公司表示已經大部份改善,但據了解,包括AMD、Nvidia等繪圖晶片供應商目前仍然遭遇相關問題;對此台積電官方回應:「40奈米良率並不如報導所說那樣的下滑,事實上,40奈米良率表現仍持平,台積電也有信心能在明年初讓40奈米良率進一步改善。」

而在此同時,台積電與中芯國際的侵權訴訟也達成庭外和解;代表台積電的律師事務所Keker & Van Nest合夥人Jeffrey Chanin透露,根據雙方協議,中芯將支付台積電2億美元與未公開數量的中芯股票、認股權證(warrants);而美國法院則將繼續行使管轄範圍內的判決權,其他和解協議內容則保密。

據了解,台積電最近在與中芯纏訟已久的侵犯商業祕密案件中,贏得了陪審團的判決;美國加州高等法院(California Superior Court)陪審團裁定,中芯自2005年1月以來與台積電達成商業間諜、侵犯智慧財產權相關案件的和解之後,仍繼續盜用台積電的商業機密。

參考原文

˙TSMC: 40-nm yields will improve (Mark LaPedus)

˙Update: TSMC, SMIC settle bitter suit (Mark LaPedus)





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