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研究人員研發可快速辨識石墨烯薄片缺陷的新技術

上網時間: 2011年01月10日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:石墨烯  康乃爾大學  矽晶片  量測  影像 

石墨烯(graphene)薄片製成的IC能以比矽晶片更低的溫度、更高的速度運作,但遺憾的是,無缺陷的石墨烯薄片非常難產生,甚至其缺陷也很難表徵出來。為此美國康乃爾大學(Cornell University)研究人員宣佈發明了一種影像技術,能藉由將石墨烯薄片色彩化,來簡化其量測方法,快速地辨識出石墨烯薄片的特性。

康乃爾大學發明的新技術,能藉由將完美的石墨烯片邊緣著色,來區分出石墨烯薄片的哪些區域是真正的單層膜(monolayers);利用繞射成像電子顯微鏡(diffraction imaging electron microscopy),該技術能量測出電子從石墨烯薄片表面反彈的角度,然後用不一樣的顏色來標示,所產生的色彩化薄片影像,就能很快地根據其定位辨識出晶界(grain boundaries)。

採用該技術所產生的影像,看起來就像是一幅拼布作品;較大的固定區域代表完美的單分子膜小薄片,被著色的邊緣則代表那些小薄片之間的不完美介面。這個研發計畫是由美國國家科學基金會(NSF)所贊助。

編譯: Judith Cheng

(參考原文: Color imaging reveals graphene defects,by R. Colin Johnson)





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