Global Sources
電子工程專輯
 
電子工程專輯 > 製造/封裝
 
 
製造/封裝  

英特爾:EUV技術恐趕不上10nm節點進度

上網時間: 2011年03月04日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:EUV  微影  10nm  ASML  Nikon 

英特爾公司正在計劃將目前的 193nm 浸入式微影技術擴展到14nm邏輯節點,此一計劃預計在2013下半年實現。同時,這家晶片業巨擘也希望能在2015年下半年於 10nm 邏輯節點使用超紫外光(EUV)微影技術進行生產。

但英特爾微影技術總監Sam Sivakumar指出,超紫外光(EUV)微影技術正面臨缺乏關鍵里程碑的危機。

儘管英特爾在距今4年前便已開始計劃10nm節點,但該公司目前正在敲定相關的製程設計規則,而EUV則遲遲未能參與此一盛晏。“EUV趕不及參與10nm節點設計規則的定義,”Sivakumar說。

Sivakumar表示,若生產工具順利在2012年下半年交貨,那麼,EUV技術仍然很可能被應用在該公司的10nm節點。但即便如此,EUV技術的進度仍然落後。

英特爾正在考慮兩家公司的EUV技術工具: ASML 和 Nikon 。據報導,ASML公司即將為英特爾推出一款‘預生產’的EUV微影工具。ASML公司的這款工具名為 NXE:3100,它採用Cymer公司的光源。

而Nikon日本總部和研發組織Selete則已開發了EUV alpha工具。今年或明年,ASML和Nikon應該都能推出成熟的EUV工具。

儘管如此,對EUV技術而言,時間依然緊迫。EUV是下一代微影(next-generation lithography, NGL)技術,原先預計在65nm時導入晶片生產。但該技術一直被推遲,主要原因是缺乏光源能(power sources)、無缺陷光罩、阻抗和量測等基礎技術。

先進晶片製造商們仍然指望能將EUV技術用在量產上,以努力避免可怕且昂貴的雙重曝光(double patterning)光學微影技術。然而,除了朝雙重曝光方向發展之外,晶片製造商們似乎別無選擇。專家認為,目前EUV主要瞄準16nm或更先進的節點。

設計規則的規則

英特爾在45nm節點使用乾式193nm微影。在32奈米則首次使用193nm浸入式生產工具,這部份主要使用Nikon的設備。

在22奈米,英特爾將繼續使用193nm浸入式微影技術。這家晶片巨擘將在22nm節點的關鍵層同時使用ASML和Nkion的設備,預計2011下半年進入量產。

而後在14nm,這家晶片製造商將繼續使用193nm浸入式微影加上雙重曝光技術,該公司稱之為兩次間距曝光(pitch splitting)。在一些會議上,英特爾曾提及在14nm節點使用五倍曝光(quintuple patterning)。該公司希望為14nm節點建立一條EUV試產線,但目前尚不清楚EUV技術所需的準備時間。

英特爾已經確定其14nm節點的設計規則,有時甚至在產品量產前兩年便制訂完成。“針對14nm的設計規則目前是確定的”,Sivakumar說。

在65奈米及以上製程,英特爾採用2D隨機和複雜的佈局設計晶片。但在45nm時則很難再將2D隨機佈局微縮。因此,在推進到45nm時,英特爾便轉移到1D的單向、柵格式(gridded)設計規則,他說。

針對10nm節點,英特爾希望在非關鍵層使用193nm浸入式技術,以及在更複雜和更精細的線切割步驟中使用EUV。“在這些步驟中,EUV是我們的首要選擇,”他說。如果EUV尚未就緒,那麼英特爾很可能會使用無光罩或193nm浸入式技術來處理線切割步驟。

英特爾也已大致確立了其10nm設計規則,它將是基於1D單向、柵格式的設計。但難題是:英特爾的10nm設計規則必須以EUV或是193nm浸入式方案其中一種為主,他表示。

EUV顯然趕不及英特爾的10nm節點設計規則定義時程了,他說。據報導,英特爾已開始制定基於193nm浸入式和多重曝光(multiple-patterning)的設計規則。

當 EUV工具就緒,英特爾可能會回頭重新定義設計規則。因此,實際上EUV仍有可能用於10nm節點。但若工具沒有準備好,英特爾就必須尋求其他的選擇。該公司的10奈米設計規則將正式在2013年第一季抵定。

編譯: Joy Teng

(參考原文: EUV late for 10-nm milestone,by Mark LaPedus)





投票數:   加入我的最愛
我來評論 - 英特爾:EUV技術恐趕不上10nm節點進度
評論:  
*  您還能輸入[0]個字
*驗證碼:
 
論壇熱門主題 熱門下載
 •   將邁入40歲的你...存款多少了  •  深入電容觸控技術就從這個問題開始
 •  我有一個數位電源的專利...  •  磷酸鋰鐵電池一問
 •   關於設備商公司的工程師(廠商)薪資前景  •  計算諧振轉換器的同步整流MOSFET功耗損失
 •   Touch sensor & MEMS controller  •  針對智慧電表PLC通訊應用的線路驅動器
 •   下週 深圳 llC 2012 關於PCB免費工具的研討會  •  邏輯閘的應用


EE人生人氣排行
 
返回頁首