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ATMI與IBM將攜手克服14奈米以下濕式製程挑戰

上網時間: 2012年07月16日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:ATMI  IBM  合作研發協議  濕式製程  14nm 

ATMI 日前宣佈與 IBM達成合作研發協議(JDA),這項協議旨在應對 14nm 及更小技術節點的關鍵濕式製程(wet process)挑戰;兩家公司將在未來兩年內,在前段和後段清洗所用的先進化學產品上進行廣泛的開發和商業化合作。

「這項與IBM的最新協議在兩家公司之間建立了多重的合作和努力。為解決下一代技術節點的挑戰,這樣的合作模式對供應商和關鍵客戶來說是至關重要的。」 ATMI微電子部門執行副總裁兼總經理Tod Higinbotham表示:「將該協議的合作模式與我們的濕式製程高效生產力發展能力相結合,意味著我們可以更快的發現並解決問題,保證我們的客戶將他們的資源集中於其他關鍵的挑戰上。」

IBM半導體製程研發副總裁George Gomba則表示:「這項與ATMI的協議進一步加強了IBM的合作發展戰略,以加快半導體14nm和10nm技術節點高質量製程和材料的解決方案的研發。」





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