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達思廢氣處理設備SPRUCE毋須使用氣體燃料

上網時間: 2012年08月28日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:SPRUCE  半導體  製程  晶圓廠  氣體燃料 

德商達思公司(DAS Environmental Expert GmbH)日前推出全新的廢氣處理系統 SPRUCE ,該系統之運作可完全不需使用氣體燃料,是專為半導體產業之CVD(化學氣相沉積)製程所量身設計的廢氣處理設備。

CVD 製程所使用的製程氣體通常具有毒性、高可燃性、爆炸性、或者對環境有害。SPRUCE透過具成本效益的方案,能可靠地清除工廠內各種廢氣的殘留氣態物質。該系統的運作原理,是使製程廢氣透過最多4個分開的入口傳至反應室,再以電力從外部加熱;反應室內的熱能會分解廢氣的分子,之後依據其化學成分提出不同的反應。在後續的吸收階段,過程中會產生氣態與固態的成分,此時再以適合的吸收液體來冷卻與吸收這些成分,完成後,廢氣會透過冷卻與清潔的步驟由屋頂排出,而不產生任何有害影響。

該廢氣減量過程中完全沒有燃燒的動作。由於設備佔地空間極小,因此可安裝在晶圓廠的地下室或直接裝在CVD系統旁。SPRUCE的特別之處在於其低持有成本以及高系統使用率。內建在反應室的清潔機制,使該系統可確保長時間的維護週期,並能輕易地整合至監視網路。對於要求接近100%系統可用度的應用,達思則特別開發出衍生機種SPRUCE DUO,其擁有兩個反應室/水洗系統以並行運作,當其中一部系統進行維護時,另一部系統可立即接手所有廢氣處理工作。

達思公司廢氣處理事業部總監Guy Davies表示:「新系統使我們的產品線陣容更臻於完整。我們注意到市場對此類系統需求相當殷切,因為許多半導體晶圓廠希望完全不使用氣體燃料;而對於業者而言,如果能夠避免安裝氣體燃料饋送系統,比較容易翻新裝有廢氣處理設備的既有晶圓廠。因應此頗具規模的市場,我們的系統將是最適選擇。」





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