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Honeywell電子材料部門提升高純銅/錫鑄造產能

上網時間: 2014年07月02日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:電子材料  鑄造產能  半導體  金屬擴能計劃  記憶體 

Honeywell電子材料部門宣佈其位於華盛頓州史坡堪市(Spokane)的工廠已完成高純度銅與錫在精煉與鑄造產能方面的提升。這項計劃自2011下半年展開,隨著半導體產業採納更多新興技術,有更多需求產生,這項高純度金屬擴能計劃正是應此市場需求而生。

運用高純銅的先進晶片設計帶動了產業對於銅材料的需求持續提升。此外,記憶體製造商從鋁轉移到銅的過程中也產生了額外的需求。

當使用於積體電路內的電導體時,銅的阻抗低於鋁,因此可以達到更快的晶片速度並提升元件效能。加上金價上揚,晶片封裝應用也從長期以來的產業標準材料(金)轉移到銅。錫也越來越常被使用於先進晶片封裝應用,用以取代鉛,讓必須遵循無鉛材料規格的客戶有新的選擇。

Honeywell是半導體產業的材料主要供應商,製造高純度實體氣相沈積法(Physical Vapor Deposition; PVD)╱濺鍍靶材和先進封裝材料,可運用於電子連接應用。Honeywell公司供應各類金屬靶材,包括銅、鈷、鋁、鈦和鎢。這些金屬主要用於佈線以及在半導體內的電路傳導電流。Honeywell的先進封裝材料包括銅和錫,用於將晶片連接到終端元件。

為確保高品質、一致且安全的金屬原料供應,Honeywell垂直整合了材料生產,供應特別為半導體產業所用的金屬。我們的供應鏈帶給客戶更好的品質控管,以及在原始材料短缺和(或)產業急遽變化期間維持供貨穩定。

除了生產高純度金屬、濺鍍靶材和先進封裝之外,Honeywell也供應半導體產業電子聚合物、精控熱電偶和電子化學等一系列材料。





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