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Mentor Graphics軟體獲台積電認證

上網時間: 2015年04月24日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:EDA  IC設計驗證  混合訊號  可製造性設計  IC生產製造 

明導國際(Mentor Graphic)宣布台積電(TSMC)和Mentor Graphics已達到在 10奈米(nm) 電子設計自動化(EDA)認證合作的第一個里程碑。Calibre實體驗證和可製造性設計(DFM)平台及 Analog FastSPICE(AFS)電路驗證平台(包括AFS Mega),已由台積電依據最新版本的10nm設計規則和SPICE模型認證。經台積電驗證的Olympus-SoC數位設計平台已依據10nm製程要求補強新工具功能,同時,全晶片等級的認證工作也正進行中。除10nm外,Mentor Graphics同時還完成Calibre、Olympus-SoC和AFS平台的16FF+ 1.0版本認證。讓設計人員及時取得獲台積電認可、有著極佳效能及精準度的最新製程簽核用技術文件。

Analog FastSPICE平台為奈米類比、無線射頻(RF)、混合訊號、記憶體和客製數位電路提供快速的電路驗證。對於大型電路,AFS平台還提供高容量及快速的混合訊號模擬。對於嵌入式靜態隨機存取記憶體(SRAM)和其他基於陣列的電路,AFS Mega提供高度精確的模擬結果。

由於電路可靠度仍是眾所矚目,Mentor Graphics和台積電針對10nm Calibre PERC產品進行改善,從而確保設計和IP開發團隊有可靠的驗證解決方案來識別電氣錯誤來源。此外,Calibre xACT 參數抽取套件包括可提供結果更精確的最新模型,實現10nm精確度方面的嚴格要求。

TSMC 16FF+ 1.0 Calibre設計套件版本的發布,Mentor Graphics Calibre團隊與台積電通力合作,使DRC的性能平均提升30%。除此之外,台積電和Mentor Graphics發佈新的填充使用模型,模型將強化可一次性成功的填充運行,從而使ECO更改更加簡單、快速。這一全新的填充方法還將在後填充驗證過程中,幫助確保一致的週期時間。





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