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創新與合作是解決DFM難題的關鍵

上網時間: 2005年07月04日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:Advanced Reticle Symposium  DFM  design-for-manufacturing  先進微影線  可製造性 

在日前舉行的先進微影線研討會(Advanced Reticle Symposium)上,Synopsys公司高層Michel Cote針對大多數來自光罩製造產業的經理人士發表演講。他讚揚EDA產業借助創新來因應可製造性(DFM)設計挑戰的方式,他同時也指出,持續的產業合作對克服這些挑戰相當重要。

Cote表示,他計算了一下參加設計自動化研討會(DAC)的EDA新興企業數量是60家,其中許多公司正是就所提出的DFM解決方案而成立的。他指出,因應DFM挑戰的關鍵,是建構並充分利用更多的資訊──特別是與設計概念相關的──從設計端傳遞到製造端的新的方法學。

有了關於優先及關鍵區域的更多資訊,製造商能更好地就何時何地實現大膽的微影增強技術,如光學逼近校正(OPC),作出適當的決策。

(Dylan McGrath)





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