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45奈米設計與設計工具均面臨重重挑戰

上網時間: 2006年03月13日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:設計工具  Design tool  設計自動化  模擬  數位 

由美國半導體產業協會(SIA)會長George Scalise日前主持的一場自由討論的活動中,來自Cadence、Rambus和Sun Microsystems等公司的高層均認為,維持IC產業產能的成長將日益艱難。其中一位業界高層就表示,這是因為日益縮小的尺寸使得設計變得更為複雜。

Sun Microsystems公司設計自動化CTO Rob Mains指出:「當我們向45奈米轉移時,不僅僅是IC難以設計,設計及開發出應用於IC設計的工具也是困難重重。」Cadence CEO兼總裁Mike Fister表示,數位設計在45奈米表現出的類比特色,成為透過平台最佳化工具的一大挑戰。「產品線廣泛的工具供應商需要的不僅是確保工具間的互通,還要確保工具組的內在最佳化。」

Scalise表示,設計複雜性將使設計數量縮水,進而吃掉工具供應商、IDM廠商和ip供應商的利潤。但Sun的Mains對此則有不同的看法。他說,「設計業總是會找到因應這些挑戰的解決之道。也許存在先進設計分支和類比無法企及的其它類型的設計。」

而Rambus平台方案副總裁Laura Stark甚至建議考慮在新興中國大陸的工程師也許能有所助益,「也許重新發明下一代工具。在中國有如此多擁有天賦的人才,我們需要找到可以利用的途徑。」但考慮到中國大陸IP正確合法使用的問題,Stark亦補充說,「當我們與中國大陸接觸前應有周密的計畫,只對有附加價值的IP方案與中國大陸進行合作。」

(Nicolas Mokhoff)




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