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鎖定32奈米製程 Nikon新型浸潤式工具問世

上網時間: 2006年07月13日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:Nikon  32nm  193nm  NSR-S610  immersion lithography 

為了迎接下一波IC設計潮流,日本Nikon近日宣佈,將推出用於32nm及以下製程晶片生產的新型193nm浸潤式微影(immersion lithography)掃描機。該款業界期待已久的NSR-S610C掃描機,Nikon曾於今年二月在一次研討會上披露相關訊息。193nm浸潤式微影技術的用途,是量產45nm半超低(half-pitch)記憶體元件及32nm邏輯晶片。

Nikon表示,NSR-S610C能以足夠的量產製程極限來製造45nm元件的所有關鍵層。「儘快推出NSR-S610C設備,就可以讓我們的客戶在45nm生產中佔據領先地位。」Nikon Precision Equipment總裁Kazuo Ushida表示。

NSR-S610C的基礎是為NSR-609B開發的浸潤式微影技術,這是Nikon採用1.07 NA透鏡為55nm量產開發的第一種浸潤式工具,並於2006年一月提供使用。新型浸潤式掃描機採用1.30數值孔徑(NA)兼反射光及折射光的透鏡,以及Nikon的四代極化技術Polano。

NSR-S610C採用了該公司的「tandem stage」和「local fill」技術,tandem stage使系統每小時能夠完成130片或更多數量的晶圓;對準精密度已經提高到6.5nm或更小,該系統將在2006年底提供使用。

「我們提供使用第一種0.85 NA透鏡、第一種0.92 NA透鏡以及第一種高NA系統,並將提供使用第一款1.30 NA系統。」Nikon Precision Equipment執行長Geoff Wild表示:「我們將使客戶能夠領先競爭對手掌握先進技術,因而贏得市場佔有率。」

(原文連結處:Nikon rolls immersion tool for 32-nm ICs)

(Mark LaPedus)




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