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明導國際新一代Calibre平台強化良率分析功能

上網時間: 2006年08月03日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:Mentor Graphics  90奈米  Calibre  DFM  Sign-off 

為了因應進入90奈米世代之後的諸多驗證挑戰,明導國際(Mentor Graphics)將其在實體驗證領域中的重要產品Calibre做了一番更新。在這個名為Calibre nm的新一代平台中,除了增強既有的設計規則檢查(DRC)功能外,也將可製造性設計(DFM)相關的分析功能納入其中,企圖在單一環境中滿足奈米級設計的簽核(Sign-off)需求,並大幅提升驗證的生產力。

Mentor Graphics公司副總裁暨設計到製造部門總經理Joseph Sawicki表示,從90奈米製程開始,單純的設計規則檢查(DRC)已經無法確保製程中的變異性與複雜程度,所以,即使是DRC-clean的設計也無法保證能得到可靠的良率,必須利用新的資訊來進行良率分析。

他解釋說,更多的幾何特徵,也就需要更多的規則來檢查。以90奈米製程為例,除了三層金屬層的DRC檢查外,其他的額外金屬層規則幾乎就比0.18微米增加一倍,再加上可製造性設計(DFM)規則、微影規則檢查(Litho-friendly Design)、關鍵面積分析(Critical Area Analysis)等,這些實體驗證與DFM分析所需的龐大運算量已成為晶片設計所面臨的重大挑戰。

也因此,設計複雜度正推動著驗證從rule-based轉換為model-based,Sawicki解釋說,“rule-based驗證僅針對單純的幾何形狀進行檢查,但隨著DFM的重要性日益顯著,必須移轉為model-based驗證,也就是對佈線進行模型的建立與行為描述,這樣才能全面性的找出設計缺陷。”隨著設計複雜度與多重檢查規則的日益增加,他相信這種移轉趨勢將持續發展下去。

也因此,過去在進行0.18微米的設計時,僅需進行DRC就可以Sign-off,現在進入90奈米世代,為了確保良率,除了DRC、還需進行關鍵特徵分析、關鍵面積分析、微影規則設計等多種檢查後,才可以Sign-off。

在此趨勢下,驗證軟體環境也必須有所改變,“我們在Calibre nm的單一環境中也同時將DFM驗證功能整合進來,設計人員能夠在執行完DFM規則檢查後,立即以視覺化方式找出可能發生缺陷的地方,並進行良率分析。這種在單一環境中整合DRC與DFM分析的功能,能夠讓設計人員更清楚瞭解設計與良率間的權衡,才能夠制訂出更適當的設計決策。”

在DRC功能的增強方面,明導在Calibre nm中加入了一稱為Hyperscaling的技術。Sawicki表示,“Hyperscaling技術能夠在集中式或分散式的共享記憶體處理器環境中執行,設計驗證能夠更快地在既有硬體中完成,或是僅需較少的新增硬體資源。根據我們客戶所進行的測試結果顯示,運算所需時間平均縮短了2-3倍。”他強調,不管是單一CPU、對稱式多重處理(SMP)、或是多核心叢集架構,都可以發揮Hyperscaling技術的效益,使運算時間大幅縮短。

此外,為了全面縮短驗證時間,Calibre nm平台也新增了漸進式驗證(incremental verification)功能。“以傳統的方法,設計人員必須等到整個DRC執行完成後,才能開始進行除錯。但現在,漸增式驗證功能能夠在DRC的執行過程中,一旦發現錯誤,就可立即進行修改。”

他解釋說,Calibre nm能夠自動辨識出發生錯誤的區域,然後僅讀取這些修正過區域的資料再重新進行檢查,如此可大幅地縮短整個驗證所需的時間。

Sawicki強調,“我們透過Hyperscaling與漸進式驗證功能,強化了DRC執行的效率,也因此設計人員能夠有更充分的時間在單一的Calibre nm平台中進行與DFM相關的分析工作,這將能使整個實體驗證的生產力大幅提升。”

作者: 勾淑婉




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