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Invarium的新工具讓浸入式微影技術更為可行

上網時間: 2006年11月08日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:immersion lithography  浸入式微影  版模成型  合成  光罩 

面對45nm製程節點時寥寥可數的幾項可行方案,許多先進晶片製造商不得不轉向浸入式微影技術。雖然浸入式微影使這些廠商得以實現新節點所需要的特徵尺寸,但該方法卻非盡如人意,例如僅就價格來看──據說一款浸入式微影工具售價高達4,000萬美元。

Invarium是一家從事可製造性設計(DFM)的新興公司,該公司近日推出新款圖形化合成軟體,據稱可用以限制浸入式微影應用於45nm時所需的先進層數。該功能將可使用戶從現有的微影設備中得到更多效益。

Invarium公司主管並未宣稱Dimension45/32這款工具能夠免除使用浸入式微影系統的需求。據Invarium應用部門副總裁Franz Zach表示,針對45nm設計中包括擴散、多晶矽和接觸層等4、5個最具關鍵性的前端層,一般都還是必須採用浸入式系統來實現。但是,Zach表示,還有5、6個金屬佈線層的圖型合成則可採用浸入式微影或傳統的乾式工具等任一種方法完成。

“這就是為什麼我們認為該方案為大家提供了一個真正的契機,”Invarium的總裁兼執行長Roy Prasad表示。“浸入式微影的出現,提供了一個昂貴的選項,而且在缺陷方面該技術仍存在疑慮。此外,可能只有少數的工具可用。”

根據Invarium表示,Dimension45/32是專為解決45nm和32nm節點時的圖形化挑戰而開發。該工具可協助微影和光罩合成團隊選擇並最佳化曝光策略和全晶片光罩佈局合成的最佳組合(有時還需重新定位),以便在矽晶上得到期望的後蝕刻結果。該公司並介紹,借助將解析度增強技術(RET)特性、光照和極化技術適切地結合在一起,Dimension45/32可利用乾式微影製程,而為所有關鍵性的佈線層提供因應製程變異所需的較大製程視窗與充份的穩定性。

Dimension45/32內建DimensionPPC的所有功能及其它幾項專為45和32nm節點設計的其它功能。Invarium公司表示,DimensionPPC是Invarium的光學近似修正(OPC)和RET建置工具的旗艦產品。這些功能包括:製程設定最佳化、可印性(printability)分析、動態重新定位、增強的蝕刻模型、增強的製程窗最佳化、基於模型的次解析度輔助特性合成以及良率的最佳化等。

此外,Dimension45/32的其它功能還包括穩定性/靈敏度分析、劑量容忍度(dose-latitude)和聚焦容忍度(focus-latitude)最大化、光罩效應補償和關鍵佈線層的圖形化。

據Invarium介紹,Dimension45/32工具在佈局時並不執行RET/OPC,而這也是其可印性分析工具與常見的‘熱點’分析工具不同之處。Prasad表示,該工具採用的作法是在非常基礎的層面上對佈局的可印性進行分析。“一旦佈局完成後,在RET/OPC執行之前,你必須瞭解基礎面的問題,如:‘該佈局的可印性為何?’”他表示,即使通過了設計規則校驗,還是有許多圖形無法被精確刻印出來。

該公司並表示,Dimension45/32建置了輔助與‘明確輔助’的嚴格特性,可取代以規則為基礎的佈局。該工具的最大劑量容忍度特性可最佳化佈局,以便使圖形在各種條件下都能夠維持。另外,動態自動重新定位特性可在微影修正過程中重新定位特性,以改善良率。


圖:透過將光照劑量變異的容忍度予以最大化,Invarium的工具可對佈局進行最佳化

Prasad承認此時就要積極地以32nm節點為目標為時尚早。“對45nm節點來說,它是一項實實在在的方案,而且能使我們為未來的32nm提供更多功能。”

除了提供新工具之外,Invarium還為了該工具而修正其業務模式。該公司現正提供多項服務,Invarium團隊目前正與一家客戶在‘採用廣泛的彈性化佈署選項”原則下,共同開發一款最佳化的圖形化合成解決方案與微影設置,Prasad介紹。他接著說,該服務可根據客戶喜好進行定製,直至採用‘完全外包’的圖形化服務,與光罩公司沒什麼兩樣。

Invarium表示,目前Dimension45/32工具正針對北美客戶進行驗證的工作,不久位於亞洲的第二個客戶也即將開始驗證作業。成立於2003年的Invarium公司在今年二月推出DimensionPPC而一鳴驚人以前,一直都很低調。

作者:麥戴倫




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