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三福氣體擴充台灣南科廠的一氧化二氮產能

上網時間: 2007年05月07日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:三福氣體  化學氣相沉積 

Air Products公司透過其子公司三福氣體股份有限公司擴充其在台灣南科廠的一氧化二氮(N2O)產能,以滿足亞洲地區快速成長中的半導體與薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD)的市場需求。已於今年初開始運作的產能,大幅增加N2O產能一倍,且生產的高純度N2O亦更能符合現有及未來客戶的需求。

最新擴充的產能使用Air Products現有技術。不僅在生產用原料的供應上維持不變,南科廠也會承襲Air Products一貫的嚴謹態度,嚴格執行製程線上監測以及完善的產品分析。

一氧化二氮(N2O)與矽甲烷(silane)共同用於氮化矽層的化學氣相沉積,氮化矽層的主要作用則是鈍化、遮罩或隔離。另一項主要應用則是熔融石英玻璃(FSG)的電漿沉積,可供作為相鄰金屬線之間的低介電隔離薄膜。




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