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KLA-Tencor推出Puma 9150暗視野晶圓檢測設備

上網時間: 2007年06月26日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:暗視野檢測  Puma 9150  45奈米 

KLA-Tencor推出Puma 9150暗視野圖像晶圓檢測技術,其特色包括全新的光學,能夠促進45奈米及以下製程節點生產時更廣泛的擷取良率關鍵缺陷。此外Puma 9150亦號稱能提供當今最高的暗視野生產力、降低營運成本、賦予更高的採樣速度,從而促進緊密的製程控管。

Puma 9150能提供增強的淺輪廓、大面積缺陷的擷取,例如因銅製程CMP所致的拋光不足和漿料殘餘物質等。此外,它也能改善諸如微小線連結,以及部分或全部洞未開等蝕刻應用的暗視野缺陷擷取。

KLA-Tencor是針對記憶體與邏輯客戶推出Puma 9150系統,此系統目前已經運用於65奈米生產、45奈米試產和45次奈米研發。該公司表示,所有Puma 91xx系統都能就地升級至9150的規格。

在KLA-Tencor的45奈米製程及以下創新缺陷控制的廣泛的解決方案組合中,Puma 9150是不可或缺的一部分。此組合除了明視野和暗視野光學檢測、電束檢測之外,亦包括一系列能正確進行缺陷辨識與類別的專業軟體工具,從而促進快速提高晶片製造商的良率和獲利。




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