KLA-Tencor推出Puma 9150暗視野晶圓檢測設備

KLA-Tencor推出Puma 9150暗視野圖像晶圓檢測技術，其特色包括全新的光學，能夠促進45奈米及以下製程節點生產時更廣泛的擷取良率關鍵缺陷。此外Puma 9150亦號稱能提供當今最高的暗視野生產力、降低營運成本、賦予更高的採樣速度，從而促進緊密的製程控管。

Puma 9150能提供增強的淺輪廓、大面積缺陷的擷取，例如因銅製程CMP所致的拋光不足和漿料殘餘物質等。此外，它也能改善諸如微小線連結，以及部分或全部洞未開等蝕刻應用的暗視野缺陷擷取。

KLA-Tencor是針對記憶體與邏輯客戶推出Puma 9150系統，此系統目前已經運用於65奈米生產、45奈米試產和45次奈米研發。該公司表示，所有Puma 91xx系統都能就地升級至9150的規格。

在KLA-Tencor的45奈米製程及以下創新缺陷控制的廣泛的解決方案組合中，Puma 9150是不可或缺的一部分。此組合除了明視野和暗視野光學檢測、電束檢測之外，亦包括一系列能正確進行缺陷辨識與類別的專業軟體工具，從而促進快速提高晶片製造商的良率和獲利。