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歐洲業者合作開發奈米壓印微影技術蝕刻製程

上網時間: 2007年10月05日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:奈米壓印微影  壓印機  蝕刻 

奈米壓印(nanoimprint)微影技術壓印機(stamp)供應商NIL Technology,與Oxford Instruments合作開發針對奈米壓印微影蝕刻製程,並已完成了三個必要步驟的開發;其一是用於矽和熔融二氧化矽(fused silica)的NIL壓印機蝕刻;其二是在壓印之後清除殘留層的的製程;其三是將圖案轉至(矽或熔融二氧化矽)基板的技術。

奈米壓印微影技術是一種通用的、具成本效益的高生產力方法,適用於10nm以下結構的生產,目標應用廣泛,包括資料儲存元件、光學元件和生物感測器。這次合作結合Oxford Instruments在電漿蝕刻方面的專利技術,以及NIL Technology在開發模板、壓印機和製程方面的經驗。

而NIL與Oxford Instruments這兩家分別來自丹麥與英國的公司,已經合作開發了用於熔融二氧化矽奈米壓印機的蝕刻技術,可去除壓印留下的聚合物、並且臨界尺寸損失小的技術,以及最終結構的蝕刻製程。

(參考原文:Groups collaborate on nanoimprint lithography)

(John Walko)




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