Global Sources
電子工程專輯
 
電子工程專輯 > 製造/封裝
 
 
製造/封裝  

歐洲微影技術研發計畫鎖定32nm先進製程

上網時間: 2008年09月10日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:32nm  微影  量測 

位於德國Dresden的先進光罩技術中心(Advanced Mask Technology,AMTC)、半導體設備供應商Vistec,以及和德國國家物理科技研究院(PTB)將共同完成研發下一代晶片生產技術和量測流程的開發計畫。

上述計畫的代號為「CDuR32 (Critical Dimensions and Registration for 32nm Mask Lithography)」,獲得了德國教育部所提供的部份資助。該計畫的總預算資金為1,670萬歐元(約2,430萬美元),其中德國政府資助了7,90萬歐元。

該計畫預定期限為2.5年,旨在研發光罩技術以用於今後Dresden晶圓廠32nm記憶體晶片和22nm微處理器的生產。AMTC是由微處理器供應商AMD、記憶體晶片製造商Qimonda和Toppan Photomasks三家公司合資。該研發計畫與EU的ENIAC研發支援計畫的目標一致。

在研發過程中,AMTC將負責分析和開發用於生產32/22nm微影的基本原則。Vistec Semiconductor Systems則負責開發下一代量測系統(LSM IPRO5)以達到合格光罩結構的要求。PTB則運用其量測技術和新數學分析方法來解決光罩的品質問題。

(參考原文: Project aims at 32nm mask lithography and beyond,by Christoph Hammerschmidt)





投票數:   加入我的最愛
我來評論 - 歐洲微影技術研發計畫鎖定32nm先進製程
評論:  
*  您還能輸入[0]個字
*驗證碼:
 
論壇熱門主題 熱門下載
 •   將邁入40歲的你...存款多少了  •  深入電容觸控技術就從這個問題開始
 •  我有一個數位電源的專利...  •  磷酸鋰鐵電池一問
 •   關於設備商公司的工程師(廠商)薪資前景  •  計算諧振轉換器的同步整流MOSFET功耗損失
 •   Touch sensor & MEMS controller  •  針對智慧電表PLC通訊應用的線路驅動器
 •   下週 深圳 llC 2012 關於PCB免費工具的研討會  •  邏輯閘的應用


EE人生人氣排行
 
返回頁首