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Nikon澄清:EUV設備研發計畫仍順利進行中

上網時間: 2009年06月01日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:超紫外光  微影設備  研發 

日本Nikon日前回應某分析師的質疑,表示該公司的超紫外光(EUV)微影設備研發計畫仍持續順利進行中。

根據Nikon的官方說法,該公司並未延後其EUV微影設備研發計畫。但日本野村證券(securities house Nomura)的分析師Richard Windsor稍早前卻指出,微影設備專家Nikon已暫時擱置開發某些EUV設備,並因此可能讓對手ASML在這項新興晶片製造技術的商業化上搶得先機。

而Nikon駁斥了上述野村證券的報告,表示:「我們不會擱置EUV研發計畫,仍在全速前進。」該公司目前有兩款命名為EUV1的第一代EUV設備,其中一套安裝在日本晶片研發機構Selete;另一套則在Nikon日本廠,目前供英特爾(Intel)使用。

目前Nikon正在開發第二代EUV設備EUV2,這是一套量產前(pre-production)設備,該公司還不打算出貨給客戶,將做為內部使用,以加速客戶的學習過程。不過與Nikon相反,ASML打算將其量產前EUV工具提供給客戶。

接下來Nikon將開發一款「量產型」設備EUV3;而且與野村證券的預期不同,EUV3已經上軌道並計劃在2012年發表。Nikon表示:「所以我們不會推出EUV2;我們將與客戶共同改進Nikon的設備。Nikon仍計劃在2012年量產EUV3。」

(參考原文:Nikon: EUV program alive and well,by Mark LaPedus)





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