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傳應材韓國高層涉嫌竊取三星製程機密 已遭逮捕

上網時間: 2010年02月06日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:應材  洩密  韓國 

根據韓國當地媒體的報導,半導體設備大廠美商應用材料(Applied Materials)的兩名高層主管,已經被韓國檢察機關逮捕;他們被指控竊取了來自三星(Samsung)的製程技術機密,並將之洩露給海力士(Hynix)。

而根據應材提交給美國證券交易委員會(SEC)的說明資料,該公司證實了上述報導,表示被韓國檢察官逮捕的兩名該公司員工,包括目前擔任應材副總裁、Applied Materials Korea (AMK)的前任負責人,以及另一位AMK的員工。

不過應材的說明資料並未敘述更多詳情,該公司發言人則透過一封電子郵件表示,由於韓國檢察機關並未公佈上述兩人的姓名,因此該公司也對員工資料保密。

韓國媒體的報導則指出,應材員工被指控竊取並洩露給海力士的資料,包括DRAM與NAND快閃記憶體的製程技術,以及晶片產能投資計畫。據了解,該洩密案發生在2005年3月至2009年12月間,嫌犯從三星取得的機密價值1億美元,但海力士否認用過那些機密。

應材則試圖捍衛公司在韓國市場的名聲,除表示正在關切此一事件,也重申該公司保護客戶、供應商與合作夥伴之智慧財產權的嚴格策略;應材表示,該公司經營韓國市場已經25年,致力提供尖端產品與服務給當地客戶,將持續確保AMK的市場地位。

(參考原文: Updated: Applied execs arrested for leaking Samung process details to Hynix,by Peter Clarke, Mark LaPedus)





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