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分析師:日本微影設備廠商面臨生存危機

上網時間: 2010年09月30日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:日本  超紫外光微影  EUVL  ASML  研發 

投資銀行野村證券(Nomura)的市場分析師指出,超紫外光微影(EUVL)儼然已成為下一代 IC 製程的主流接班技術,但日本微影設備業者在此方面的研發腳步,卻落後歐洲廠商ASML甚多;不過該銀行分析師認為,面臨被市場淘汰危機的日本微影設備廠商,若可透過某種國家支持政策形式來凝聚產業力量,仍為時未晚──因為包括Nikon在內的業者恐怕無法獨力負擔所需的技術研發支出。

野村證券的分析師已經針對各種微影接班技術進行研究,所得出的結論是,儘管EUVL在2015~2016年全面量產之前,還得克服動力來源、光罩與檢查方面的挑戰,但仍是最具潛力的一種微影技術。而事實上,跟目前的氬氟浸潤式193奈米微影雙重圖形(double-patterning)相較,EUVL所面臨的問題還比較少。

「根據那些最積極微縮製程的NAND快閃記憶體製造商說法,EUVL是下一代微影技術的最佳選項,他們並不想用雙重圖形技術(DPT)。」野村證券分析師表示,主要原因是DPT製程不但複雜度較高,也會導致低吞吐量、製程不可靠性以及帶來高成本的低良率。

此外,利用了密集運算的像素化相位移光罩(xilated phase-shift masks)之反轉式微影技術(Inverse lithography technology,ILT),據說與英特爾正運用該技術與氬氟浸潤式微影,微縮至11奈米製程;但野村證券分析師認為,那只是當前現有技術暫時性的擴充應用。

還有奈米壓印微影(Nanoimprint lithography,NIL)亦頗具潛力,甚至可微縮至10奈米製程,但主要適用微機電系統(MEMS)與光學元件。電子束微影(E-beam lithography)雖已經用以生產原型元件,但要達到大量生產仍有難以突破的障礙。至於利用不同聚合物架構的自動組裝(self-assembly)技術,應用範圍則非常狹窄。

野村證券預測,EUVL設備市場在2010年與2011年將分別達到50億日圓(約6,000萬美元)、250億日圓(約3億美元)的規模,到了2015與2016年,該市場可望進一步擴充至1,600億日圓(約19億美元)與2,000億日圓(約24億美元)的規模,並在2018年達到3,000億日圓(35億美元)。

日本廠商Canon是全球首家推出商業化EUVL設備的供應商,但該公司已經停止開發這類設備;另一家日本廠商Nikon的相關進展則遠遠落後歐洲業者ASML。目前ASML是唯一的EUVL設備供應商,該公司一台步進機(stepper)的售價高達4,000萬~4,500萬歐元(約5,000萬~6,000萬美元)。

野村分析師預言,在接下來的五年內,ASML將獨霸EUVL步進機市場;其他因EUVL技術而受惠的廠商包括相關零件供應商Ushio、Lasertec與Hoya。而由於ASML在EUVL系統開發上的領導地位,日本廠商恐怕將失去在先進半導體微影技術領域的優勢;對此野村分析師建議,日本需要推動一個全國性且聯合整個產業的研發計畫。

(參考原文: Analyst: Japan's litho firms face extinction,by Peter Clarke)





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