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Nikon揭露微影技術開發藍圖

上網時間: 2011年05月04日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:EUV  微影  193nm  S621D  浸入式微影 

作者:馬立得

在日前舉辦的LithoVision 2011大會上,Nikon公司透露其微影技術的最新發展藍圖,發佈其S621D獨立型193nm浸入式微影工具,以及一款獨立光源與一種用於超紫外光(EUV)微影的測量技術。

Nikon公司贊助了這次的LithoVision大會,此次的活動並與SPIE先進微影技術會議同時舉行。

Nikon這家日本設備製造商與其競爭對手ASML在微影技術領域一直針鋒相對,但兩家分別採取明顯不同的策略。ASML公司致力於將超紫外光(EUV)技術推向22nm節點。但Nikon公司則力推其16或11nm節點設備,Nikon公司下一代技術開發部門總經理Yuichi Shibasaki指出,“EUV生態系統尚未完備,Nikon的推出時程可能再延遲些”。

現在,Nikon公司正力推其光學解決方案。該公司現正出貨其先前發佈的S620D──用於32nm及其以下節點的193nm浸入式設備,它具有1.35的數值孔徑(NA)以及每小時200片晶圓產量。據稱其客戶包括GlobalFoundries、英特爾(Intel)和三星(Samsung)等公司。

根據報導,英特爾現正使用Nikon S620D於其22nm邏輯節點製程上進行開發。Nikon是英特爾在32nm節點關鍵層微影設備的唯一供應商;但據稱英特爾公司在22nm上同時採用了ASML和Nikon的掃描器。

Nikon在LithoVision展出的S621D型浸入式微影工具也可為一款獨立型的系統。S620D採用模組化系統打造,未來還可升級至S621D。

如同S620D一樣,S621D也具有1.35的數值孔徑,但新掃描器改善了針對14nm邏輯節點所需的覆蓋層。

在展示該工具時,Nikon公司的Shibasaki指出該工具幾項據稱可提高性能與覆蓋範圍的“微調與最佳化旋鈕”。此外,該工具還包括一個內部曝光網格(intrashot grid)、動態鏡頭控制、可調式光罩板載具和畸變控制等,他說。

Nikon公司還透過推出其所謂任意形態的iPure照明器,進一步擴展其光源光罩最佳化(SMO)技術。Nikon Precision公司執行副總裁Hamid Zarringhalam介紹,這款iPure技術能夠即時調整掃描儀內的照明光源。

EUV發展動向

同時,在EUV技術領域,Nikon的競爭對手ASML已經售出兩套原型工具──分別賣給了Albany Nanotech和比利時的IMEC;最近,該公司還出貨其首款獨立式試產EUV設備給三星電子。

Nikon尚未推出獨立型EUV設備,但在其日本公司總部和日本研發機構Selete株式會社中分別提供了一部作為研發用的設備。

Nikon公司的EUV1微影設備已開發一段時間了。該公司目前預測,EUV技術可望在2015年的11nm“半間距”(half pitch)節點製程時派上用場。

在LithoVision大會上,Nikon和佳能(Cannon)並宣佈將共同開發用於EUV的光化學波導量測技術。兩家公司共同表示,目前這種名為‘Multi-Incoherent-Source Talbot Interferometer’(Misti)的技術尚處於研發階段。





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