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Molecular Imprints推動半導體450mm晶圓過渡

上網時間: 2013年01月22日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:壓印微影  J-FIL  Imprio450  450mm  光學微影 

壓印微影公司Molecular Imprints Inc.宣佈,該公司採用 J-FIL 壓印微影技術的 Imprio450 設備獲業界半導體廠商採用,將協助用於開發其 450mm 晶圓生產。該公司聲稱,這款設備能夠協助加速半導體公司向 450mm 晶圓生產過渡,縮短至少兩年的轉型期。

Molecular Imprints公司表示,其 Imprio450 設備在2012年底時獲業界半導體公司採用。根據該公司表示,這項設備用於一項多年晶圓服務開發合約的一部份。

日前在一場由SEMI舉辦的產業策略研討會上,英特爾公司副總裁Robert Bruck展示了該首款全圖形化450mm晶圓。.

Molecular Imprints 公司專有的 J-FIL 壓印微影(Jet and Flash Imprint Lithography)技術已能實現小於2nm-3 sigma線邊緣粗糙度和1.2nm 3 sigma臨界尺寸均勻性的24nm圖案結構。它並為10nm圖形提供了單步驟製程的發展前景。

Molecular Imprints公司CEO Mark Melliar-Smith表示:「在一個光學微影開發計劃往往長達數年以及花費動輒數十億美元的時代,我們有能力在收到客戶採購訂單的短一年內實現設計、建造並提供一款先進的奈米壓印平台。」

他補充說,該 Imprio450 的功能完全符合半導體記憶體製造方面的需求,不過該公司在將 J-FL 技術導入先進 CMOS 元件量產方面也取得了更多的進展。

編譯:Susan Hong

(參考原文:Imprint litho firm claims 450-mm first,by Peter Clarke)





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