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Entegris VaporSorb化學濾網適於高階半導體製程

上網時間: 2014年07月21日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:空氣分子污染  AMC  化學濾網  VaporSorb  黃光製程 

Entegris Inc.宣佈推出空氣分子污染(AMC)化學濾網 VaporSorb 系列的擴充產品。Entegris為首創的 VaporSorb TRK 化學濾網新增在黃光製程中脫除弱酸,以涵蓋四種主要空氣分子污染類型,適用於半導體製造關鍵步驟的無塵室環境和製程生產機台。

VaporSorb 化學濾網的設計已能以單一過濾器捕捉空氣有機物、鹼和強酸。新型 VaporSorb TRK 已添加特殊材質,使其成為第一個不僅能捕捉前三種核心污染物類別,還能捕捉第四類別的化學濾網,也就是定義為弱酸的類別。

針對光微影塗佈/曝光機追蹤設計新型化學濾網,首創「四合一」化學濾網解決方案設立在過去的「三合一」技術上,避免了多重化學濾網的處理。此外,本化學濾網能保持 VaporSorb 的使用壽命,降低生產機台的停機時間和持有成本。

Entegris AMC過濾服務部資深產品行銷經理 Joe Wildgoose 表示:「目前的黃光製程良率問題可望減輕;解決問題要從處理一個必須處理的污染物類別開始,也就是弱酸。 VaporSorb TRK 不僅是能處理三種常見主要問題的單一解決方案,還能處理最新關於弱酸性空氣污染物的問題。」

弱酸的例子包括醋酸和甲酸(醋酸鹽; CH3COO- 和甲酸鹽; HCOO- ),以及亞硝酸(亞硝酸鹽; NO2-)。這些污染物會在黃光製程中產生污染和產量的問題,因為不僅傳統 AMC 化學濾網無法除去這些污染物,而且使用傳統設計過濾器時還可能產生有機污染。

VaporSorb 化學濾網以獨特的混合材料捕捉空氣分子污染物。藉由添加新的吸附劑來加強該混合材質,以產生新型四合一化學濾網。實測上,終端使用者測試已證明該化學濾網能夠捕捉所有會污染晶圓和設備的有機物、鹼、強酸和弱酸。





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