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台積電將在7奈米製程節點使用EUV?

上網時間: 2014年12月10日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:台積電  ASML  7奈米  EUV  製程 

歐洲半導體設備大廠 ASML 透露,晶圓代工大廠台積電(TSMC)計劃在 2015年採購兩套超紫外光(EUV)掃描機,準備將製程技術推向下一個世代,有可能深入至7奈米。

ASML資深副總裁Frits van Hout在12月4日舉行的台積電供應鏈管理論壇接受場邊採訪時表示,台積電採購的EUV掃描機是針對10奈米製程應用:「他們將會利用那些設備,準備進入7奈米製程的量產。」不過台積電代理發言人Elizabeth Sun婉拒對此發表評論。

台積電採用EUV設備,可能是下一代半導體微影主流技術轉換的訊號;稍早前市場預期,由於EUV設備發展延遲,晶片製造商會繼續在10奈米製程採用傳統浸潤式微影技術。

ASML是在11月24日於倫敦舉行的法說會上宣佈,該公司已接獲台積電 2台 NXE:3350B EUV系統訂單,預計於2015年出貨,用於量產。同時,ASML也將協助台積電將今年已經出貨的2台NXE:3300B EUV系統升級到NXE:3350B。

晶片龍頭英特爾(Intel)則在今年稍早表示,該公司發現了一種方法能在不需要EUV的前提下,將摩爾定律(Moore's Law)的生命延續至7奈米節點。

不過ASML現在表示,業界可能會開始傾向於支持EUV技術。「問題在於EUV技術何時成熟到足以量產,」van Hout表示:「台積電是第一波推動者,而且我想每個人將會發現世界到處都有相似的物理定律,會在時機正好的時候達到相同的結論。」

英特爾與台積電都在ASML下了投資以推動製程技術進展。在2012年7月,英特爾同意投資ASML 41億美元,以加速EUV技術的採用;同年8月,台積電也同意投資台積電11.1億歐元(14億美元),以確保取得最新的量產技術知識。

而ASML也駁斥了英特爾對EUV前景質疑的訊息;「你必須非常謹慎閱讀他們所說的話;」van Hout表示:「人人都說“我們有不需要EUV的技術解決方案”,而且完美證明那是具可能性的。但是他們也都說想要盡可能快點採用EUV以降低複雜性、提升良率並節省成本,所以這並不是他們想不想要該技術,而是他們都需要、若沒有它也無法達成想要的結果。」

2018年邁入7奈米世代?

van Hout預期,台積電可能最快在2018年以採購自ASML的EUV掃描機展開7奈米製程晶片量產。「台積電共同執行長劉德音說,他希望該套設備能在2015年底準備好試產,並在2016年正式生產;」他表示:「該公司還沒有針對7奈米製程時間表做出任何宣布,通常節奏是兩年,有可能會稍微超過兩年。」

劉德音在該場供應鏈管理論壇上發表演說時指出,台積電承諾將盡力繼續推動摩爾定律:「我們需要與設備開發商早期合作,降低10奈米及以下製程的總成本。」而他在10月中旬時曾透露,台積電不會在第一批10奈米晶片產品採用EUV為影技術,不過該公司正在與ASML合作開發該製程節點採用的設備。

當時劉德音表示,(EUV)要趕上10奈米節點還有一段路要走,該公司正在尋找10奈米以後的切入點。台積電已經宣布將採用EUV掃描機進行初期量產,將把最初採購的兩套設備轉為量產標準,並在明年再添加兩套量產標準的設備。

van Hout 表示:「然後根據結果,台積電將會進入下一個製程節點,或者是從10奈米節點延長其使用;這還有待觀察。」

編譯:Judith Cheng

(參考原文: TSMC to Use EUV for 7nm, Says ASML,by Alan Patterson)

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