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微影設備訂單突顯EUV技術挑戰

上網時間: 2015年04月28日     打印版  Bookmark and Share  字型大小:  

關鍵字:極紫外光  EUV  微影系統 

針對荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾(ASML Holdings NV)售出15台極紫外光(EUV)微影系統給一家神秘美國買家的新聞,業界分析師們分別提出了不同的反應與看法。雖然很少有人懷疑英特爾(Intel)就是買家,但這項交易的條款以及EUV是否為半導體製造準備就緒等細節仍不明朗。

EUV微影技術雖然已經用了幾十年了,由於存在光源不足的缺陷,至今仍無法提供製造先進晶片所需的良率與產能。ASML長久以來已經在這方面發佈了幾次重要的系統升級,但最近的進展仍遠低於生產目標。

就在去年秋天的英特爾開發者論壇(IDF)上,英特爾院士Mark Bohr表示,EUV「尚未準備就緒,其產能與可靠性都還未能到位。」

Mark Bohr當時表示,英特爾正著眼於一種無需使用EUV的方法,能夠在更具成本效益的前提下製造7nm晶片。他稍早前即針對10nm製程發表相同的看法,不過,該公司尚未對於7nm與10nm製程節點透露更多細節。

有的分析師認為英特爾就是ASML新聞發佈中所提到的美國現有客戶。不過,根據另一位分析師推測,這會是一項長期的交易,因為在15台EUV系統中有10台要到2017年以後才能出貨。根據分析師指出,這項交易已經讓ASML的股價上漲15%了。

其他分析師也採取更樂觀的看法。「對於英特爾來說,要在10nm節點利用EUV為時已晚,目前的時機似乎更適合用於7nm,」Real World Technologies首席分析師David Kanter表示。

「這是對於ASML投下信心的一票,從這項訂單的規模可看出,EUV即將進入大量生產;以往的交易通常只買一兩台機器,主要用於實驗目的,」Kanter說,「而英特爾購買EUV可望促進其他競爭對手如三星(Samsung)、Globalfoundries與台積電(TSMC)在不久的將來儘快進行系統升級,」他補充說。

然而,Kanter提醒,實際的銷售交易仍然取決於EUV是否能符合性能目標。此外,他並補充說,EUV系統能否達到記憶體製造商更嚴峻的成本目標,一切也還是個未知數。

今年稍早,台積電宣佈採用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統,在24小時內曝光1,000片晶圓。該公司預計在7m製程節點時使用EUV,但在10nm生產開始後也將嘗試導入於其10nm製程中。這項新的EUV交易顯示英特爾可能也打算採取類似的計劃。

無疑地,EUV是業界主要的候選技術,它能夠避免當今193nm浸潤式微影系統利用多種圖形化步驟帶來的高成本。然而,除了與光源有關的問題以外,EUV仍然面臨光阻劑、光罩偵測、密度與防護膜等障礙。

編譯:Susan Hong

(參考原文:EUV Deal Raises Questions,by Rick Merritt)





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